Kombinierte Fundament-Injektions-Gründungselemente für flache Einzelgründungen im Bereich von Schichtgrenzen

Project lead: Prof. Dr.-Ing. habil. Jens Engel Cooperation partner: CWH Ingenieurgesellschaft mbH Funding body: EFRE, SMWA

Kombinierte Fundament-Injektions-Gründungselemente für flache Einzelgründungen im Bereich von Schichtgrenzen

Ziel des Projekts ist die Entwicklung eines neuen Gründungsverfahrens als Kombination kurzer Träger in Verbindung mit der Porenrauminjektion im Bereich der Schichtgrenzen bzw. der Dichtungsbahnen. Bei Überdeckungen von ca. 0,7-1,5 m ist die Anwendung der klassischen Injektionsverfahren wegen des fehlenden Gegendrucks nicht möglich. Deshalb ist die Erprobung spezieller dünnflüssiger Injektionsmittel, z. B. auf Wasserglasbasis, vorgesehen. Im Rahmen des Projekts werden zwei Gründungsvarianten untersucht.
Variante 1 sieht eine kombinierte Flächen-Träger-Gründung oberhalb von Dichtungsbahnen vor, bei der kurze Träger so eingebracht werden sollen, dass ein ausreichender Sicherheitsabstand zur Dichtung erhalten bleibt und durch ein optimiertes Injektionsregime eine flächige Aufweitung am unteren Trägerende erreicht wird. Bei Variante 2 kommen Injektions-Träger als Tiefengründung zum Einsatz um die Möglichkeit der Durchdringung von Dichtungsbahnen und Schichtgrenzen mit einer Abdichtung und Verfestigung des an die Träger angrenzenden Bereichs zu untersuchen.
Neben dem Verfahren selbst werden konstruktive Vorgaben und Bemessungsansätze für die Nutzung des neuen Gründungsverfahrens erarbeitet. Dies ermöglicht, dass Gründungsverfahren an den jeweils geotechnisch-ingenieurgeologischen Gegebenheiten angepasst werden können. Schwerpunktmäßig ist der Einsatz in geotechnisch anspruchsvollen Böschungen bzw. Hängen von Deichen, Verkehrsdämmen, Lärmschutzwällen oder Deponien geplant.